ТРИОРГАНОАРСИНЫ
(третичные арсины), соед. общей ф-лы R3As. Триалкиларсины, как правило,
жидкости, три-ариларсины обычно твердые в-ва (см. табл.); раств. в орг. р-рителях,
не раств. в воде [за исключением (CH3)3As].
Триорганоарсины обладают высокой термостабильностью
[напр., (CH3)3As и (CF3)3As разлагаются
при т-ре350
°С], относительно легко присоединяют О2, S, Se, Hal2,
образуя соответствующие производные As(IV) и As(V). Триорганоарсины-слабые основания, их
соли с HHal и комплексы с к-тами Льюиса неустойчивы. Известны относительно устойчивые
комплексы триорганоарсинов с галогенидами и карбонилами переходных металлов, напр. [(C6H5)3As]2-Ru(CO)3,
C6H4[As(CH3)2]2-Fe(CO)3.
При действии RHal триорганоарсины образуют соед. арсония типа [R4As]+Hal-.
Связь As—С расщепляется при действии нуклеофилов на перфторалкил- и хлорвиниларсины,
щелочных металлов, О2 и Н2 при высоких т-рах, а также
при электролизе или радиолизе. Взаимодействие триорганоарсинов с азидами приводит к иминоарсинам,
напр.: (C6H5)3As + + N3CN:(C6H5)3As
= NCN + N2.
Триорганоарсины получают действием RMgHal
на As2O3 или AsX3 (X = Hal, OR), р-цией R2Zn
с AsCl3, совместным действием Na и RHal на AsHal3, присоединением
арсинов RnAsX3-n (X = H, Hal;
n = 0-2) к непредельным соединениям, трис-(Полифторалкил)арсины
получают алкилированием As по-лифториодалканами.
Триалкиларсины используют
в электронной пром-сти для легирования эпитаксиальных слоев.
Лит. см. при ст.
Мышьякорганические соединения. Г. И. Дрозд.